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| 用于光刻技术的新型化学放大光刻胶 | |
| 作者姓名： | 宋琦 |
| 摘 要： | Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ及Ｓ．Ｙ．Ｓｈｉｍ利用在紫外光作用下能产生强酸，继而参与酸催化过程的方法，使光刻胶膜上的曝光部分变为可溶性而实现整个光刻过程的化学放大作用。聚（二特丁富马酸酯）是一个典型的体系。ＣｌＯＣＣＯＣｌＫＯｔＢｕｔＢｕＯＨＯ２ＣＣＯ２过氧化苯甲酰ΔＯ２ＣＣＯ２ ｎ生成的聚合物具有透明、热稳定性好、易于从一些常用溶剂中注塑成型。此外，酸催化特丁基的丢失。此聚合物对紫外光刻条件敏感，但干刻蚀强度（在氧等离子体作用下）不好。利用掺混其他单体如苯乙烯或烯丙基三甲基硅烷等进行共聚的… |
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