| 基底温度对脉冲激光沉积WSx薄膜组织结构和摩擦学性能的影响 |
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| 引用本文： | 张继,郑晓华,杨芳儿,寇云峰,宋仁国.基底温度对脉冲激光沉积WSx薄膜组织结构和摩擦学性能的影响[J].摩擦学学报,2012,32(6):612-618. |
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| 作者姓名： | 张继 郑晓华 杨芳儿 寇云峰 宋仁国 |
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| 作者单位： | 1. 浙江工业大学机械工程学院,浙江杭州,310014
2. 常州大学材料科学与工程学院,江苏常州,213164 |
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| 基金项目： | 浙江省自然科学基金项目(Y4110645)资助. |
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| 摘 要： | 采用脉冲激光沉积法（PLD）在不同温度单晶硅基底上制备了WSx固体润滑薄膜.利用扫描电子显微镜（SEM）、X射线能谱仪（EDS）、X射线衍射仪（XRD）对薄膜的成分、形貌和微观结构进行了分析,采用球-盘式磨损试验机测试了薄膜在大气环境下（相对湿度50%～60%）的摩擦学特性.结果表明：室温下所获得的薄膜为微晶结构;在RT～300℃范围内,随着温度的升高,薄膜表面趋于光滑、致密,且形成晶态WSx的趋势逐渐增大,薄膜与基底间的结合力增大,但薄膜中S和W的含量之比（S/W比）从1.84逐步下降到1.49.薄膜的摩擦系数在RT～200℃范围内与其S/W比呈反比关系,在300℃条件下,薄膜中形成了大量的WS2晶体,摩擦系数最低且耐磨性能也最好.
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| 关 键 词： | 薄膜 WS2 脉冲激光沉积 基底温度 固体润滑 |
Effects of Deposition Temperature on Microstructure and Tribological Properties of Pulsed Laser Deposited WSx Films |
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| ZHANG Ji,ZHENG Xiao-hu,YANG Fang-er,KOU Yun-feng and SONG Ren-guo.Effects of Deposition Temperature on Microstructure and Tribological Properties of Pulsed Laser Deposited WSx Films[J].Tribology,2012,32(6):612-618. |
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| Authors: | ZHANG Ji ZHENG Xiao-hu YANG Fang-er KOU Yun-feng and SONG Ren-guo |
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| Institution: | College of Mechanical Engineering, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310014, China;College of Mechanical Engineering, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310014, China;College of Mechanical Engineering, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310014, China;College of Mechanical Engineering, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310014, China;School of Materials Science and Engineering, Changzhou University, Changzhou 213164, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | thin film WS2 pulsed laser deposition substrate temperature solid lubrication |
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