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圆片级封装的无铅焊料凸点制作技术研究
引用本文:罗驰,叶冬,刘建华,刘欣.圆片级封装的无铅焊料凸点制作技术研究[J].微电子学,2005,35(5):501-503,508.
作者姓名:罗驰  叶冬  刘建华  刘欣
作者单位:中国电子科技集团公司第二十四研究所,重庆400060
摘    要:对圆片级封装(WLP)的结构设计和关键工艺技术进行了研究;描述了凸点下金属(UBM)层的选择,凸点回流技术,以及凸点的质量控制技术;重点阐述了采用电镀制作无铅焊料凸点的方法.

关 键 词:圆片级封装  无铅焊料  凸点下金属  凸点
文章编号:1004-3365(2005)05-0501-03
收稿时间:2005-06-15
修稿时间:2005-06-152005-08-02

Lead-Free Solder Bumping Technology for Wafer Level Package
LUO Chi, YE Dong, LIU Jian-hua, LIU Xin.Lead-Free Solder Bumping Technology for Wafer Level Package[J].Microelectronics,2005,35(5):501-503,508.
Authors:LUO Chi  YE Dong  LIU Jian-hua  LIU Xin
Institution:Sichuan Institute of Solid-State Circuits, China Electronics Technology Group Corporation, Chongqing 400060, P. R. China
Abstract:Structure designing and key processing technologies for wafer level package(WLP) were studied.The selection of under bump metal(UBM),the reflow and quality control of bumping are described.And techniques to make lead-free solder bumping with electroplating are illustrated.
Keywords:Wafer level package(WLP)  Lead-free solder  Under bump metal(UBM)  Bumping  
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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