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| 光学工艺 光学加工工艺与设备 | |
| 摘 要： | TN305.2 2007054867pH值对铌酸锂晶片抛光速率及抛光表面的影响=Effectof pHon polishing velocity and glazed surface of LN wafer刊,中]/武晓玲(河北工业大学微电子研究所.天津(300130)) ,刘玉岭…//半导体技术.? 2007 , 32(1) .?37-39采用化学机械抛光方法,自制碱性抛光液 |
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