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HL—1M装置杂质VUV辐射及Te观测
引用本文:李可华,王全明.HL—1M装置杂质VUV辐射及Te观测[J].核聚变与等离子体物理,1996,16(4):25-36.
作者姓名:李可华  王全明
摘    要:本文介绍了HL-1M装置等离子体杂质真空紫外辐射观测的初步结果。用类Li离子谱线强度比法估计出Te≈400eV。镀膜后遥CEM探测器的灵敏度提高。杂质对装置放电有重要影响。

关 键 词:等离子体  杂质  托卡马克装置  HL-1M  VUV辐射
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