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HL—1M装置杂质VUV辐射及Te观测
引用本文:
李可华,王全明.HL—1M装置杂质VUV辐射及Te观测[J].核聚变与等离子体物理,1996,16(4):25-36.
作者姓名:
李可华
王全明
摘 要:
本文介绍了HL-1M装置等离子体杂质真空紫外辐射观测的初步结果。用类Li离子谱线强度比法估计出Te≈400eV。镀膜后遥CEM探测器的灵敏度提高。杂质对装置放电有重要影响。
关 键 词:
等离子体
杂质
托卡马克装置
HL-1M
VUV辐射
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