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| 一种提高热氧化均匀度的方法 | |
| 引用本文： | 张霞.一种提高热氧化均匀度的方法[J].半导体学报,2004,25(7). |
| 作者姓名： | 张霞 |
| 作者单位： | 北京广播学院光电子学系,北京,100024 |
| 摘 要： | 分析了在采用内燃结构进行氢氧合成氧化过程中,造成氧化层厚度不均匀的原因.根据流体力学和热传导理论,设计了解决这一问题的半封闭式炉管结构氧化方法和相关的匀流隔热散热装置.实验结果表明,此方法简单易行,能够有效改善氢氧合成氧化的均匀度,并已用于微电子工艺研究和生产中. |
| 关 键 词： | 热氧化 均匀度 热传导 匀流隔热散热装置 |
A Method of Improving Uniformity in Thermal Oxidation and Design of a Related Structure |
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| Keywords: | |
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