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Ta,Ta/Cu缓冲层对NiFe/Fe Mn双层膜交换偏置场的影响
引用本文:李明华,于广华,姜宏伟,蔡建旺,朱逢吾.Ta,Ta/Cu缓冲层对NiFe/Fe Mn双层膜交换偏置场的影响[J].物理学报,2001,50(11):2230-2234.
作者姓名:李明华  于广华  姜宏伟  蔡建旺  朱逢吾
作者单位:(1)北京科技大学材料物理系,北京100083; (2)首都师范大学物理系,北京100037; (3)中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室,北京100080; (4)中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室,北京100080;北京科技大学材料物理系,北京100083
基金项目:国家自然科学基金重大项目(批准号:19890310)资助的课题.
摘    要:采用磁控溅射方法制备了分别以Ta和Ta/Cu作为缓冲层的一系列NiFe/FeMn双层膜.实验发现,以Ta为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换偏置场比以Ta/Cu为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换偏置场大.测量了这两种双层膜的织构、表面粗糙度和表面成分.结果表明,以Ta/Cu为缓冲层时,Cu在NiFe层的上表面偏聚是造成NiFe/FeMn双层膜交换偏置场降低的重要原因. 关键词: NiFe/FeMn 交换偏置场 织构 表面粗糙度

关 键 词:NiFe/FeMn  交换偏置场  织构  表面粗糙度
收稿时间:6/7/2001 12:00:00 AM
修稿时间:2001年6月4日

EFFECT OF Ta AND Ta/Cu BUFFERS ON THE EXCHANGE BIAS FIELD OFNiFe/FeMn BILAYERS
LI MING-HUA,YU GUANG-HUA,JIANG HONG-WEI,CAI JIAN-WANG and ZHU FENG-WU.EFFECT OF Ta AND Ta/Cu BUFFERS ON THE EXCHANGE BIAS FIELD OFNiFe/FeMn BILAYERS[J].Acta Physica Sinica,2001,50(11):2230-2234.
Authors:LI MING-HUA  YU GUANG-HUA  JIANG HONG-WEI  CAI JIAN-WANG and ZHU FENG-WU
Abstract:The NiFe/FeMn bilayers with different buffer layers (Ta or Ta /Cu) and Ta cover layers were prepared by magnetron sputtering. The results showed that the exchange bias field of NiFe/FeMn films with the Ta buffer was higher than that of the films with the Ta/ Cu buffer .We investigated the crystallographic texture, surface roughness and surface segregation, and demonstrated that the decrease of the exchange coupling field was caused by the Cu surface segregation in NiFe/FeMn films with Ta/ Cu buffer layers.
Keywords:NiFe/FeMn  exchange bias field  texture  surface roughness
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