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| 薄膜厚度监控器的发展概况 | |
| 引用本文： | 刘一声.薄膜厚度监控器的发展概况[J].电子元件与材料,1986(1). |
| 作者姓名： | 刘一声 |
| 作者单位： | 电子工业部26所 高级工程师 |
| 摘 要： | <正> 前言自从三十年代用热分解CH_4或C_7H_(10)使C沉积在陶瓷基体上制成碳膜电阻器,以及在透镜表面上真空蒸发低折射率的CaF_2形成减反射涂层以来,由于真空蒸发装置和各种溅射技术的迅速发展,许多新的薄 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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