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杂志ISSN号
CVD金刚石膜研究近期进展与应用
作者姓名:
吕反修
作者单位:
北京科技大学材料科学系
摘 要:
简要地总结了CVD金刚石膜技术近期研究与开发情况,讨论了金刚石膜工具的热学应用、光学应用及电子学的现状,芨发展趋势,金刚石膜工具的应用是近期具有最大市场的应用。但随首在沉积技术和异质外延技术的进一步突破,金刚石膜光学和电子学应用将比工具应用具有更加光明的市场前景。
关 键 词:
金刚石膜 综述 化学汽相淀积 膜
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