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| 核磁共振成像技术的新进展（下） | |
| 引用本文： | 邬学文.核磁共振成像技术的新进展（下）[J].物理,1995,24(12):724-729. |
| 作者姓名： | 邬学文 |
| 作者单位： | 华东师范大学分析测试中心 |
| 摘 要： | 核磁共振成像技术的新进展（下）邬学文（华东师范大学分析测试中心，上海２０００６２）４化学移位成像￣［１３，１４］在凝聚态物质中，核自旋受到核外的电子所产生的局部磁场的作用，在不同的化学环境中，其共振频率略有不同，某种物质的共振频率Ｆｋ等于式中称为屏蔽... |
| 关 键 词： | NMR 核磁共振 成像 化学移位 磁化率 |
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