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新兴的波前工程学
引用本文:
杨国桢,顾本源.新兴的波前工程学[J].物理,1995,24(1):5-12.
作者姓名:
杨国桢
顾本源
作者单位:
中国科学院物理研究所
摘 要:
基于光学衍射原理而发展起来的新光学技术,应用于光学掩模设计,可制作逼近监界尺寸的微小元件和极高密度的集成电路芯片,波前工程学可能导致集成电路模板制作上的一场革命,其前景十分引人瞩目。
关 键 词:
光学掩模
光刻蚀术
波前工程
集成电路
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