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半绝缘SiC单晶生长和表征
引用本文:宋生,胡小波,徐现刚. 半绝缘SiC单晶生长和表征[J]. 人工晶体学报, 2012, 0(Z1): 166-169
作者姓名:宋生  胡小波  徐现刚
作者单位:山东大学晶体材料国家重点实验室
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973)(2011CB301904,2009CB930503);国家自然科学基金(51021062,11134006)
摘    要:使用升华法生长碳化硅(SiC)单晶,借助数值模拟方法优化温场,在不同条件下分别获得单一晶型的4H-SiC和6H-SiC单晶,利用拉曼光谱进行表征。采用V掺杂的方法,制备半绝缘SiC单晶,使用非接触式电阻率测试仪进行了测试,并对4H-SiC和6H-SiC电阻率进行了比较和分析。

关 键 词:SiC单晶  升华法  数值模拟  晶型  半绝缘

Growth and Characterization of Semi-insulating SiC Single Crystal
SONG Sheng,HU Xiao-bo,XU Xian-gang. Growth and Characterization of Semi-insulating SiC Single Crystal[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2012, 0(Z1): 166-169
Authors:SONG Sheng  HU Xiao-bo  XU Xian-gang
Affiliation:(State Key Laboratory of Crystal Materials,Shandong University,Jinan 250100,China)
Abstract:
Keywords:
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