扫描干涉场曝光系统中干涉条纹周期测量误差对光栅掩模槽形的影响 |
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引用本文: | 姜珊,巴音贺希格,宋莹,潘明忠,李文昊.扫描干涉场曝光系统中干涉条纹周期测量误差对光栅掩模槽形的影响[J].光学学报,2014(4):58-66. |
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作者姓名: | 姜珊 巴音贺希格 宋莹 潘明忠 李文昊 |
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作者单位: | 中科院长春光学精密机械与物理研究所;中国科学院大学; |
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基金项目: | 国家重大科研仪器设备研制专项(61227901) |
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摘 要: | 扫描干涉场曝光系统中干涉条纹周期的测量误差是影响曝光过程中相位拼接的主要因素。为制作符合离子束刻蚀要求的高质量光栅掩模,建立了条纹周期测量误差与扫描曝光对比度关系的数学模型,利用光刻胶在显影过程中的非线性特性,建立了扫描干涉场曝光光栅的显影模型,给出了光栅掩模槽形随周期测量误差的变化规律,并进行了实验验证。结果表明:周期测量误差不仅会使掩模槽形变差,还会引起槽形在空间上的变化。在周期测量的相对误差一定时,相位拼接误差与相邻扫描间的步进间隔成正比,与干涉条纹周期成反比。在显影条件一定、曝光光束束腰半径1mm、曝光步进间隔0.8mm、曝光线密度1800gr/mm时,周期测量误差控制在139ppm以内,理论上可以制作槽底洁净无残胶、槽形均匀的光栅掩模。
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关 键 词: | 光栅 扫描干涉场曝光系统 周期测量误差 槽形 |
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