| 硅基上Si1-xGex合金的外延生长及性能研究 |
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| 引用本文： | 袁紫媛,潘睿,夏顺吉,魏炼,叶佳佳,李晨,陈延峰,芦红.硅基上Si1-xGex合金的外延生长及性能研究[J].人工晶体学报,2020,49(11):2178-2193. |
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| 作者姓名： | 袁紫媛 潘睿 夏顺吉 魏炼 叶佳佳 李晨 陈延峰 芦红 |
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| 作者单位： | 南京大学,固体微结构物理国家重点实验室&现代工程与应用科学学院,南京 210093;南京大学,固体微结构物理国家重点实验室&现代工程与应用科学学院,南京 210093;江苏省功能材料设计原理与应用技术重点实验室,南京 210023 |
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| 基金项目： | (国家重点研发项目)%(国家自然科学基金重点项目) |
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| 摘 要： | 硅基上高质量的异质外延生长是实现高性能微电子器件的基础,本文通过低温分子束外延技术在Si衬底上实现了全组分的Si1-x Gex(0
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| 关 键 词： | 分子束外延 Si1-xGex合金 硅基锗 Ge量子点 异质外延 界面调控 |
Epitaxial Growth and Characterizations of Si1－xGex Alloys on Si Substrate |
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| YUAN Ziyuan,PAN Rui,XIA Shunji,WEI Lian,YE Jiajia,LI Chen,CHEN Yanfeng,LU Hong.Epitaxial Growth and Characterizations of Si1－xGex Alloys on Si Substrate[J].Journal of Synthetic Crystals,2020,49(11):2178-2193. |
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| Authors: | YUAN Ziyuan PAN Rui XIA Shunji WEI Lian YE Jiajia LI Chen CHEN Yanfeng LU Hong |
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