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| 多孔硅发光研究获新进展 | |
| 作者姓名： | 侯晓远 王迅 |
| 作者单位： | 复旦大学应用表面物理实验室(侯晓远)，复旦大学应用表面物理实验室(王迅) |
| 摘 要： | 最近,复旦大学应用表面物理实验室在多孔硅发光研究方面又取得两项新的进展,现介绍如下:1.电致发光的功耗低于文献报道的水平 目前,我们所制成的多孔硅电致发光样品,其发光的阈值电压和电流已减小到 6V,30mA/cm2,比国际上迄今所报道的功耗值都要低.从表1的比较可以看出,我们所获得的电致发光特性达到了文献报道的最好水平.2.光致发光获得迄今所报道的最短波长 由于多孔硅发光的波长与硅柱直径有关,当发光波长进入绿光范围时,硅柱孔径已很细,极易坍塌,使得更细的量子线结构很难实现.迄今国外文献所发表的光致发光谱其中心波长最短约为530nm(… |
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