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非晶硅薄膜制备及其晶化特性研究
引用本文:罗士雨,冯磊,汪洪,林辉,滕浩,黄涛华,周圣明. 非晶硅薄膜制备及其晶化特性研究[J]. 人工晶体学报, 2008, 37(5): 1191-1194
作者姓名:罗士雨  冯磊  汪洪  林辉  滕浩  黄涛华  周圣明
作者单位:中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;安徽大学物理与材料科学学院,合肥,230039;安徽大学物理与材料科学学院,合肥,230039;中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800
摘    要:用磁控溅射法在K9玻璃上沉积了非晶硅(a-Si)膜和a-Si/Al膜,并将其在流动的N2气氛下进行退火.对退火前后的样品进行Raman光谱、XRD和SEM表征和分析.Raman光谱表明随着退火温度的升高,a-Si膜的散射峰出现了明显的蓝移,但XRD结果表明薄膜仍为非晶态;而a-Si/Al膜在温度很低时就已经开始晶化.

关 键 词:磁控溅射  非晶硅  多晶硅,

Study on the Preparation of Amorphous Silicon Film and Its Crystallization Property
LUO Shi-yu,FENG Lei,WANG Hong,LIN Hui,TENG Hao,HUANG Tao-hua,ZHOU Sheng-ming. Study on the Preparation of Amorphous Silicon Film and Its Crystallization Property[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2008, 37(5): 1191-1194
Authors:LUO Shi-yu  FENG Lei  WANG Hong  LIN Hui  TENG Hao  HUANG Tao-hua  ZHOU Sheng-ming
Abstract:
Keywords:
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