|
|||||
|
|
| 系列柱形薄壁腔靶制备工艺研究 | |
| 引用本文： | 郑永铭 王明达. 系列柱形薄壁腔靶制备工艺研究[J]. 强激光与粒子束, 1994, 6(4): 573-580 |
| 作者姓名： | 郑永铭 王明达 |
| 作者单位： | 中国工程物理研究院核物理与化学研究所 |
| 摘 要： | 为了从实验上深入研究超热电子产生规律，从而减少或抑制超热电子对惯性约束聚变（ＩＣＦ）的危害，我们制备了一系列薄壁腔靶，以供实验研究。本文详细地描述了柱形薄壁腔靶的制备工艺。利用ＮＧ－１０４型精密单向纵切车床，采用金刚石刀具车削，提高心轴质量，表表粗糙度可达０．１μｍ。采用电镀和磁控溅射二种方法镀膜，为了使腔靶壁厚均匀，在镀膜时，必须使心轴匀速旋转。利用磁控溅射在腔靶外表面再涂上１μｍ左右厚的二氧化硅，以提高超薄壁腔靶的强度和自立能力。在腐蚀心轴时，必须仔细控制酸的浓度，防止在腐蚀时因产生气泡太多，太快而使腔靶破裂。用Ｘ射线照相法和扫描电子显微镜测量腔靶的几何参数。制备系列柱形薄壁腔靶达到指标为：壁厚范围２～３０μｍ，壁厚均匀性小于１０％，表面粗糙度０．２～０．３μｍ。最后介绍了在“神光Ⅰ”上打靶结果。结果表明，实验值与理论值符合较好。 |
| 关 键 词： | 超热电子 薄壁腔靶 微靶工艺 惯性约束聚变 superthermal electron thinwall cavity target micro-technology for targets fabrication scanning electron microscope X-ray microphotograph |
FABRICATION TECHNOLOGY OF SERIES OF CYLINDRICAL THINWALL CAVITY TARGETS |
|
| Zheng Yongming, Wang Mingda,Zhuo Zhiyun,Lu Xiaoming,Sun Zuoke,and Zhou Lan. FABRICATION TECHNOLOGY OF SERIES OF CYLINDRICAL THINWALL CAVITY TARGETS[J]. High Power Laser and Particle Beams, 1994, 6(4): 573-580 | |
| Authors: | Zheng Yongming Wang Mingda Zhuo Zhiyun Lu Xiaoming Sun Zuoke and Zhou Lan |
| Abstract: | |
| Keywords: | superthermal electron thinwall cavity target micro-technology for targets fabrication scanning electron microscope X-ray microphotograph. |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |