| 0.2 nm带宽滤光片的制备以及退火温度对其形貌和性能的影响 |
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| 引用本文： | 王凯旋,陈刚,刘定权,马冲,张秋玉,高凌山.0.2 nm带宽滤光片的制备以及退火温度对其形貌和性能的影响[J].光学学报,2021,41(20):217-223. |
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| 作者姓名： | 王凯旋 陈刚 刘定权 马冲 张秋玉 高凌山 |
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| 作者单位： | 中国科学院上海技术物理研究所,上海200083;上海科技大学物质学院,上海200031;中国科学院大学,北京100049;中国科学院上海技术物理研究所,上海200083;中国科学院大学,北京100049;中国科学院上海技术物理研究所,上海200083 |
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| 摘 要： | 近红外波长为1.064 μm的激光是激光测距、自由空间光通信和空间光学遥感等应用中的主要激光光源之一.窄带滤光片是抑制背景光干扰的关键元件之一,目前大部分滤光片的半峰全宽为几纳米.本文研制了中心波长为(1064±0.05) nm、半峰全宽为0.19 nm、峰值透过率可达70.2％的带通滤光片,并考察了不同温度(100,200,300℃)退火处理后滤光片的表面形貌和光谱特性的变化.实验结果表明:滤光片的表面光滑,受退火温度的影响很小;滤光片的透射光谱随着退火温度的升高向长波方向移动,在100℃退火处理3h的滤光片的光谱漂移量为0.03 nm,说明该滤光片可在温控条件有限的空间光学系统中使用.
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| 关 键 词： | 薄膜 亚纳米带宽滤光片 离子束溅射沉积 近红外波段 退火温度 |
Fabrication of 0.2 nm Bandwidth Filter and Effects of Annealing Temperature on Its Morphology and Characteristics |
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| Wang Kaixuan,Chen Gang,Liu Dingquan,Ma Chong,Zhang Qiuyu,Gao Lingshan.Fabrication of 0.2 nm Bandwidth Filter and Effects of Annealing Temperature on Its Morphology and Characteristics[J].Acta Optica Sinica,2021,41(20):217-223. |
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| Authors: | Wang Kaixuan Chen Gang Liu Dingquan Ma Chong Zhang Qiuyu Gao Lingshan |
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