| 热退火对ZnO薄膜表面形貌与椭偏特性的影响 |
| |
| 引用本文： | 刘磁辉,林碧霞,王晓平,朱俊杰,钟声,傅竹西. 热退火对ZnO薄膜表面形貌与椭偏特性的影响[J]. 发光学报, 2004, 25(2): 151-155 |
| |
| 作者姓名： | 刘磁辉 林碧霞 王晓平 朱俊杰 钟声 傅竹西 |
| |
| 作者单位： | 中国科学技术大学,物理系,安徽,合肥,230026;中国科学技术大学,物理系,安徽,合肥,230026;中国科学技术大学,物理系,安徽,合肥,230026;中国科学技术大学,物理系,安徽,合肥,230026;中国科学技术大学,物理系,安徽,合肥,230026;中国科学技术大学,物理系,安徽,合肥,230026 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金重大研究计划重点课题(90201038) |
| |
| 摘 要： | 利用原子力显微镜(AFM)和椭偏仪对溅射制备的硅基ZnO薄膜的热退火表面形貌与椭偏特性进行了研究。结果发现：未退火或低温退火(≤850℃)薄膜的形貌呈现较弱的各向异性，晶粒尺寸大小较为均匀，尺寸约为50nm。当经高温退火后，ZnO薄膜的晶粒尺寸明显增大，同时伴随晶粒尺寸分布非均匀化，较大的尺寸可达400nm，而较小的尺寸仅为50nm。此外，椭偏测量表明：椭偏参数在不同的退火温区的变化呈现明显差别；当退火温度高于850℃时，薄膜的结构有明显的变化。
|
| 关 键 词： | 氧化锌薄膜材料 热退火 原子力显微镜 椭偏测量 |
| 文章编号： | 1000-7032(2004)02-0151-05 |
| 修稿时间： | 2003-03-17 |
Thermal Annealing Effect on Characteristics of Surface Morphology and Ellipsometric of Zinc Oxide Film |
| |
| LIU Ci-hui,LIN Bi-xia,WANG Xiao-ping,ZHU Jun-jie,ZHONG Sheng,FU Zhu-xi. Thermal Annealing Effect on Characteristics of Surface Morphology and Ellipsometric of Zinc Oxide Film[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2004, 25(2): 151-155 |
| |
| Authors: | LIU Ci-hui LIN Bi-xia WANG Xiao-ping ZHU Jun-jie ZHONG Sheng FU Zhu-xi |
| |
| Affiliation: | LIU Ci-hui,LIN Bi-xia,WANG Xiao-ping,ZHU Jun-jie,ZHONG Sheng,FU Zhu-xi Department of Physics,University of Science and Technology of China,Hefei 230026,China |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | ZnO thin film annealing behavior atomic force microscopy ellipsometry |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
