首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      


Surface hydration of crystalline and amorphous silicas
Authors:V Bolis  B Fubini  S Coluccia  E Mostacci
Institution:(1) Istituto di Chimica Generale Ed Inorganica, Facolta di Farmacia, Università di Torino, Via Pietro Giuria, 9-10125 Torino, Italy;(2) Istituto di Chimica Fisica, Facolta di Scienze M.F.N., Universita di Torino, Corso Massimo D'azeglio, 48-10125 Torino, Italy
Abstract:The surface properties of three SiO2 samples, one crystalline (quartz) and two amorphous, with a large difference in particle size, have been investigated by thermal analysis, adsorption calorimetry and infrared spectroscopy. The variation in the silanol group population upon thermal treatment has been followed via the evolution of the i.r. bands at 3745–3750 cm–1 (free hydroxyl groups) and 3650-3550 cm–1 (adjacent pairs of SiOH) and the evolution of the heat of adsorption of water with coverage on the outgassed samples.The adsorption capacities increase in the sequence high surface area amorphous sample T=673 K) brings about dehydroxylation leaving only isolated silanols on the high surface area amorphous silica, and partial dehydroxylation of the low surface area material. Quartz is totally hydrophilic, as its regular structure probably stabilizes the hydroxyl layers at the surface.
Zusammenfassung Die Oberflächeneigenschaften von einer kristallinen (Quarz) und zwei amorphen SiO2-Proben mit großen Unterschieden in der Partikelgröße wurden durch thermische Analyse, Adsorptionskalorimetrie und Infrarotspektroskopie untersucht. Bei thermischer Behandlung eintretende Veränderungen in der Silanolgruppenpopulation wurden durch Messung der IR-Banden bei 3745–3750 cm–1 (freie Hydroxylgruppen) und 3650–3550 cm–1 (benachbarte SiOH-Paare) und der Adsorptionswärme von Wasser an ausgeheitzten Proben untersucht. Die Adsorptionskapazitäten nehmen in folgender Reihenfolge ab: amorphe Probe mit großer Oberfläche > amorphe Probe mit geringer Oberfläche > Quarz. Dehydroxylierung der Oberfläche hat zunehmenden hydrophoben Charakter (Gestalt der Isothermen, Adsorptionswärme kleiner als Kondensationswärme von Wasser) zur Folge. Bei der gleichen thermischen Behandlung (673 K) werden bei amorphen Siliciumdioxid mit großer Oberfläche eine nur isolierte Hydroxylgruppen zurücklassende Dehydroxylierung und bei Material mit kleiner Oberfläche eine teilweise Dehydroxylierung beobachtet. Quarz ist vollkommen hydrophyl, da die reguläre Struktur wahrscheinlich die Hydroxylschichten an der Oberfläche stabilisiert.

Rcyiecyzcyyucymcyiecy Mcyiecytcyocydcyocymcy tcyiecyrcymcyicychcyiecyscykcyocygcy ocy acyncyacylcyicyzcyacy, acydcyscyocyrcybcytscyicyocyncy ncyocyjcy kcyacylcyocyrcyicymcyiecytcyrcyicyicy icy icyncyfcyrcyacy kcyrcyacyscyncyocyjcy scypcyiecykcytcyrcyocyscykcyocypcyicyicy icyscyscylcyiecy dcyocyvcyacyncyycy pcyocyvcyiecyrcykhcyncyocyscytcyncyycy iecy scyvcyocyjcyscytcyvcyacy tcyrcyiecykhcy ocybcyrcyacyzcytscyocyvcy dcyvcyucyocykcyicy scyicy kcyrcyiecymcyncyicyyacy, icyzcy kcyocytcyocyrcyycykhcy ocydcyicyncy bcyycylcy kcyrcyicyscy tcyacylcylcyicychcyiecyscykcyicymcy (kcyvcyacyrcytscy), acy ocy scytcyacylcysoftcyncyycyiecy dcyvcyacyacymcyocyrcyfcyncyycymcyicy scy rcyacyzcylcy icychcyncyycymcy rcyacyzcymcyiecyrcyocymcy chcyacyscytcyicytscy. Zcyacy icyzcy mcyiecyncyiecyncyicyiecymcy pcylcyocytcyncyocyscytcyicy scy icylcyacyncyocylcysoftcyncyycykhcy gcyrcyucypcypcy pcyrcyicy tcyiecyrcymcyicychcyiecyscykcyocy jcy ocybcyrcyacybcyocytcykcyiecy ocybcyrcyacyzcytscyocyvcy scylcyiecydcyicylcyicy pcyocy Icy Kcy pcyocylcyocyscyacymcy pcyrcyicy 3745–3750 scymcy–1 (scyvcyocybcyocydcyncyycyiecy gcyicydcyrcyocykcyscyicylcy softcyncyycyiecy gcyrcyucypcypcyycy) icy pcyrcyicy 3650–3550 scymcy–1 (scymcyiecyzhcyncyycyiecy pcyacyrcyycy gcy rcyucypcypcy SiOH), acy tcyacykcyzhcyiecy pcyocy vcyycydcyiecylcy iecyncyicyyucy tcyiecypcylcyocytcy acydcyscyocyrcybcytscyicyicy vcyocydcy ycy dcyiecygcyacyzcyicyrcyocyvcyacyncyncyycymcyicy ocybcyrcy acyzcytscyacymcyicy. Acydcyscyocyrcybcytscyicyocyncyncyycy iecy scypcyocyscyocybcyncyocyscytcyicy ucyvcyiecylcyicychcyicy vcyacyyucytcyscyyacy vcy rcyyacydcyucy acymcyocyrcyfcyncyycy jcy ocybcyrcyacyzcyiecytscy scy bcyocylcysoftcyshcyocyjcy pcylcyocy shchcyacydcysoftcyyucy pcyocyvcyiecyrcykhcyncyocyscytcyicy < acymcy ocyrcyfcyncyycyjcy ocybcyrcyacyzcyiecytscy scy mcyacylcyocyjcy pcylcyocyshchcyacy dcysoftcyyucy pcyocyvcyiecyrcykhcyncyocyscytcyicy < kcyvcyacyrcytscy. Scytcy iecypcyiecyncysoftcy dcyiecygcyicydcyrcyocykcyscyicylcyicyrcy ocyvcyacyncyicyyacy vcyycyzcyycyvcyacyiecytcy ucyvcyiecylcyicychcyiecyncyicyiecy gcyicydcyrcyocyfcyocybcyncyocygcyocy khcyacyrcyacykcytcyiecyrcyacy ocybcyrcyacyzcytscyocyvcy (vcy icydcy icyzcyocytcyiecyrcymcyycy, tcyiecypcylcyocytcyacy acy dcyscyocyrcybcytscyicyicy ncyicyzhcyiecy tcyiecypcylcyocytcyycy scyzhcyicyzhcyiecyncyicy yacy vcyocydcyycy). Tcyiecyrcymcyicychcyiecyscykcyacyyacy ocybcyrcyacybcyocytcy kcyacy (T=673 K) vcyycyzcyycyvcyacyiecytcy dcyiecygcyicydcyrcyocykcyscyicylcyicyrcyocyvcyacyncyicy iecy tcyocylcysoftcykcyocy icyzcyocylcyicyrcyocyvcyacyncyncy ycykhcy scyicylcyacyncyocylcysoftcyncyycykhcy gcyrcyucypcypcy vcy acy mcyocyrcyfcyncyocymcy ocybcyrcyacyzcytscyiecy scy bcyocylcy softcyshcyocyjcy pcylcyocyshchcyacydcysoftcyyucy pcyocyvcyiecyrcykhcyncyocyscytcy icy icy chcyacyscytcyicychcyncyocyiecy dcyiecygcyicydcyrcyocykcyscyicylcyicyrcyocyvcyacyncyicy iecy vcy ocybcyrcyacyzcytscyiecy scy mcyacylcyocyjcy pcylcyocy shchcyacydcysoftcyyucy pcyocyvcyiecyrcykhcyncyocyscytcyicy. Kcyvcyacyrcytscy yacyvcy lcyyacyiecytcyscyyacy pcyocylcyncyocyscytcysoftcyyucy gcyicydcyrcyocyfcyicylcysoftcyncyycymcy, tcyacykcy iecygcyocy ucypcyocyrcyyacydcyocychcyiecyncyncyacyyacy scytcyrcyucykcy tcyucyrcyacy, vcyiecyrcyocyyacytcyncyocy, scytcyacybcyicylcyicyzcyicyrcy ucyiecytcy gcyicydcyrcyocykcyscyicylcysoftcyncyycyiecy scylcy ocyicy ncyacy pcyocyvcyiecyrcykhcyncyocyscytcyicy.


This research was supported by the Ministry of Public Education within a national programme relating to the structure and reactivity of surfaces.
Keywords:
本文献已被 SpringerLink 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号