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硅熔体CZ结构浅池内热毛细对流转变滞后特性
引用本文:李友荣,彭岚,吴双应,曾丹苓,今石宣之.硅熔体CZ结构浅池内热毛细对流转变滞后特性[J].工程热物理学报,2005,26(Z1):155-158.
作者姓名:李友荣  彭岚  吴双应  曾丹苓  今石宣之
作者单位:1. 重庆大学动力工程学院,重庆,400044
2. 日本九州大学先导物质化学研究所,日本福冈,816-8580
基金项目:国家自然科学基金;教育部留学回国人员科研启动基金
摘    要:为了了解水平温度梯度作用时Czochralski(CZ)结构浅池内硅熔体热毛细对流的转变滞后特性,利用有限差分法进行了非稳态三维数值模拟,坩埚外壁被加热,半径为50mm,晶体半径为15mm,液池深度为3mm,坩埚外壁与晶体生长界面温差变化范围为6-27K。模拟结果表明,当逐渐增加温差时,在△T=9K处,二维轴对称流动转变为三维稳态流动,在△T=20.6K处,三维稳态流动转变为三维振荡流动;当逐渐减小温差时,在△T=19.5K处,三维振荡流动才转变为三维稳态流动,因此,二次流动转变存在滞后,滞后温差约为1.1K。

关 键 词:热毛细对流  硅熔体  数值模拟  滞后
文章编号:0253-231X(2005)Suppl.-0155-04
修稿时间:2004年12月31

TRANSITION HYSTERESIS OF THERMOCAPILLARY CONVECTION IN A SHALLOW MOLTEN SILICON POOL WITH CZ CONFIGURATION
LI You-Rong,PENG Lan,WU SHUANG-YING,ZENG Dan-ling,IMAISHI Nobuyuki.TRANSITION HYSTERESIS OF THERMOCAPILLARY CONVECTION IN A SHALLOW MOLTEN SILICON POOL WITH CZ CONFIGURATION[J].Journal of Engineering Thermophysics,2005,26(Z1):155-158.
Authors:LI You-Rong  PENG Lan  WU SHUANG-YING  ZENG Dan-ling  IMAISHI Nobuyuki
Abstract:
Keywords:thermocapillary convection  silicon melt  numerical simulation  hysteresis
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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