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Ge衬底上的Ⅱ-Ⅵ族化合物MBE生长研究
引用本文:
钟建国,谢钦熙,张恕明,乔怡敏,袁诗鑫.Ge衬底上的Ⅱ-Ⅵ族化合物MBE生长研究[J].半导体学报,1990,11(9):680-687.
作者姓名:
钟建国
谢钦熙
张恕明
乔怡敏
袁诗鑫
作者单位:
中国科学院上海技术物理研究所 (钟建国,谢钦熙,张恕明,乔怡敏),中国科学院上海技术物理研究所(袁诗鑫)
摘 要:
本文报道了单晶ZnSe、ZnTe和CdTe薄膜在Ge(100)衬底上的MBE生长,用RHEED观察了其生长规律,并对样品作了X光衍射及SIMS等测试分析。观察到衬底与外延层之间存在晶向偏角。对这一现象进行了理论解释。
关 键 词:
Ⅱ—Ⅵ族化合物
分子束外延
SIMS、RHEED
X光衍射
晶向偏角
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