Institution: | (1) UPR 15 du CNRS Physique des Liquides et Electrochimie , Université P. et M. Curie, T22, 4 place Jussieu, F-75252 Paris-Cédex 05, France;(2) Institute of Chemical Process Fundamentals, Academy of Sciences of the Czech Republic, Rozvojova 135, 165 02 Prague 06, Czech Republic |