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| 选择氧化法制备核壳NiSi/SiO_2纳米颗粒及磁学性能研究（英文） | |
| 引用本文： | 耿中荣,严仁杰,李钰,王海新,刘艳花.选择氧化法制备核壳NiSi/SiO_2纳米颗粒及磁学性能研究（英文）[J].人工晶体学报,2014(9). |
| 作者姓名： | 耿中荣 严仁杰 李钰 王海新 刘艳花 |
| 作者单位： | 兰州交通大学机电工程学院; |
| 基金项目： | National Natural Science Foundation of China(11104126) |
| 摘 要： | 采用选择氧化法首次制备具有核壳结构的NiSi/SiO2纳米颗粒。通过SEM,TEM,EDX,XRD和VSM等测试手段对材料进行表征。结果表明,用上述方法制备得到的NiSi/SiO2纳米颗粒直径在40~200 nm之间,SiO2壳层厚度约为20 nm。基于选择氧化、结晶和热力学理论对SiO2壳层结构的形成机理进行了阐释。制备得到的NiSi/SiO2纳米颗粒在室温下显示出超顺磁性。 |
| 关 键 词： | 选择氧化 核壳结构 NiSi/SiO纳米颗粒 磁学性能 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |