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助溶剂NH4I条件下CuI晶体的降温法生长及性能研究
引用本文:吕洋洋,许智煌,叶李旺,苏根博,庄欣欣. 助溶剂NH4I条件下CuI晶体的降温法生长及性能研究[J]. 人工晶体学报, 2014, 43(10): 2481-2486
作者姓名:吕洋洋  许智煌  叶李旺  苏根博  庄欣欣
作者单位:中国科学院光电材料化学与物理重点实验室,福州350002;中国科学院大学,北京100049;中国科学院光电材料化学与物理重点实验室,福州,350002
基金项目:中国科学院光电材料化学与物理重点实验室资助项目
摘    要:以碘化铵(NH4I)作为助溶剂,采用溶液降温法生长CuI晶体.在50 ~60℃温区、6 mol/L助溶剂浓度条件下生长出厘米级尺寸的透明块状晶体.采用XRD、综合热分析(TG/DTA)对晶体进行结构表征,晶体属于γ相,相变温度分别为370℃(γ相→β相)和409℃(β相→α相).利用透射光谱、光致发光谱分析晶体的光学性能,晶体在可见区波段透过率达到70;,在426 nm附近有一个明显的带边特征峰,并伴有一个412 nm的肩峰.霍尔测试表明晶体为p型半导体,相应迁移率为11.88cm2 ·V-1 ·s-1.

关 键 词:碘化亚铜  溶液降温法  碘化铵  光致发光  迁移率,

Growth and Characterization of CuI Crystal by Temperature Reduction Method Using NH4I as Co-solvent
LV Yang-yang,XU Zhi-huang,YE Li-wang,SU Gen-bo,ZHUANG Xin-xin. Growth and Characterization of CuI Crystal by Temperature Reduction Method Using NH4I as Co-solvent[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2014, 43(10): 2481-2486
Authors:LV Yang-yang  XU Zhi-huang  YE Li-wang  SU Gen-bo  ZHUANG Xin-xin
Abstract:
Keywords:
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