| 氧气流量对MPCVD制备微/纳米双层金刚石膜的影响 |
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| 引用本文： | 刘聪,汪建华,吕琳,翁俊.氧气流量对MPCVD制备微/纳米双层金刚石膜的影响[J].人工晶体学报,2014,43(10):2630-2634. |
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| 作者姓名： | 刘聪 汪建华 吕琳 翁俊 |
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| 作者单位： | 武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,武汉,430073 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(11175137) |
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| 摘 要： | 应用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,以CH4/H2/Ar为主要气源,成功制备出了微/纳米双层金刚石膜.同时,在纳米膜层生长过程中,通过添加O2辅助气体,研究了不同O2流量对微/纳米金刚石膜生长的影响.结果表明,当O2流量在0 ～ 0.8 sccm范围时,所获得的金刚石膜仍为微/纳米两层膜结构;当氧气流量增加到1.2 sccm时,金刚石膜只有一层微米膜结构;而O2流量在0～ 1.2 sccm范围时,纳米层晶粒尺寸及品质与氧气流量成正比例关系.表明适量引入O2可以促进纳米层晶粒长大和提高膜品质.另外,当O2流量为0.8 sccm,所制备的微/纳米金刚石膜不仅品质好,而且生长率也较高.
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| 关 键 词： | MPCVD 微/纳米 金刚石膜 氧气流量 |
Influence of O2 Flow Rate on Micro-Nanocrystalline Dual Layer Diamond Films Prepared by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition |
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| LIU Cong,WANG Jian-hua,LV Lin,WENG Jun.Influence of O2 Flow Rate on Micro-Nanocrystalline Dual Layer Diamond Films Prepared by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition[J].Journal of Synthetic Crystals,2014,43(10):2630-2634. |
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| Authors: | LIU Cong WANG Jian-hua LV Lin WENG Jun |
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