真空沉积PbTe薄膜的结构检测 |
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引用本文: | 于福聚,徐三保.真空沉积PbTe薄膜的结构检测[J].红外与毫米波学报,1984,3(4). |
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作者姓名: | 于福聚 徐三保 |
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作者单位: | 中国科学院上海技术物理研究所
(于福聚),中国科学院上海技术物理研究所(徐三保) |
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摘 要: | 真空度为3×10~(-5)Torr,PbTe源温度为850℃,在Si(111)晶片衬底上沉积PbTe薄膜。膜的光学厚度大约是20μm。我们对薄膜进行了X射线衍射分析,寻找不同生长条件下膜的晶态规律,并与其光学特性相对照。用X射线衍射仪,Cuk_α辐射,从20~95℃记录了薄膜的衍射谱。根据谱图分析,薄膜的结构可分为三类:1.高度取向010]有织构的近单晶结构;2.杂乱取向的多晶结构;3.择
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