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低压化学蒸汽淀积(LPCVD)的三维计算机模拟通式
作者姓名:王季陶 张世理
作者单位:复旦大学材料科学系 上海
摘    要:在反应管中轴向和径向分别引入片间和片内的反应气体分子的转化率η和η(ρ,±l)以及反应气体的迁移分流因子ξ,提出了LPCVD的三维计算机模拟通式,可以同时模拟计算各种LPCVD薄膜技术中的片间和片内均匀性。计算结果同实验结果符合较好。对实际反应过程中出现的气流绕流和Bernoulli效应以及反应物分子的吸附和反应副产物分子的脱附等对算式的影响作了讨论并提出相应的修正措施。三维LPCVD计算机模拟通式的最大优点是:表达式简单,具有普遍性,不受化学反应级数的限制;计算过程中运算速度快,所占计算机内存空间小;等等。因此,三维LPCVD计算机模拟通式的提出将有利于实现LPCVD薄膜工艺的微型计算机控制。

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