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Thermodynamic and experimental investigations on the growth of thick aluminum nitride layers by high temperature CVD |
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| Authors: | A. Claudel E. Blanquet D. Chaussende M. Audier D. Pique M. Pons |
| Affiliation: | 1. Science et Ingénierie des Matériaux et des Procédés, Grenoble INP-CNRS-UJF, BP 75, 38402 Saint Martin D’Hères, France;2. Laboratoire des Matériaux et du Génie Physique, Grenoble INP-CNRS, 3 parvis Louis Néel, BP 257, 38016 Grenoble, France;3. ACERDE, 452 rue des sources, 38920 Crolles, France |
| Abstract: | |
| Keywords: | A1. Thermodynamic A1. X-ray diffraction A3. High temperature chemical vapor deposition, HTCVD B1. AlN B1. SiC B1. Sapphire |
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