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用GXRD和XPS分析离子注入层的表面结构
引用本文:杨建华.用GXRD和XPS分析离子注入层的表面结构[J].理化检验(化学分册),2003,39(4):202-204.
作者姓名:杨建华
作者单位:南通工学院,南通,226007
基金项目:国家自然科学基金 (5 96710 5 1),江苏省教育厅自然科学基金(0 2KJD490 0 0 1)部分资助项目
摘    要:采用由金属蒸气真空弧(MEVVA)离子源引出的强来流脉冲钨离子对H13钢进行了离子注入表面改性研究。借助掠面X射线衍射(GXRD)和X射线光电子能谱(XPS)考察了注入表面层的相结构以及钨、铁、碳的化学状态。研究发现,表面的含碳化钨层比含铁、钨氧化层要厚,离子注入层中钨元素以替位钨和三氧化钨形式存在,铁元素以金属铁和三氧化二铁形式出现,而又各价态元素的原于比随深度变化。

关 键 词:GXRD  XPS  分析  离子注入层  表面结构  掠面X射线衍射  X射线光电子能谱  离子注入  表面改性  H13钢  表面分析  钨离子  抗氧化机理  耐磨机理
文章编号:1001-4020(2003)04-0202-03
修稿时间:2002年4月17日

ANALYSIS OF SURFACE MICROSTRUCTURE OF ION IMPLANTATION LAYER BY GXRD AND XPS
YANG Jian,hua.ANALYSIS OF SURFACE MICROSTRUCTURE OF ION IMPLANTATION LAYER BY GXRD AND XPS[J].Physical Testing and Chemical Analysis Part B:Chemical Analgsis,2003,39(4):202-204.
Authors:YANG Jian  hua
Abstract:
Keywords:GXRD  XPS  Ion implantation
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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