| 直流辉光等离子体辅助热丝CVD法沉积金刚石薄膜 |
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| 引用本文： | 赵庆勋,韩佳宁,文钦若,辛红丽,杨景发.直流辉光等离子体辅助热丝CVD法沉积金刚石薄膜[J].光谱实验室,2002,19(1):137-139. |
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| 作者姓名： | 赵庆勋 韩佳宁 文钦若 辛红丽 杨景发 |
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| 作者单位： | 河北大学物理科学与技术学院,河北省保定市,071002 |
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| 基金项目： | 河北省自然科学基金资助项目 (5 990 91) |
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| 摘 要： | 采用直流辉光等离子体助进热丝化学气相沉积（CVD）的方法，低温（550－620℃）沉积得到晶态金刚石薄膜，经X射线衍射谱（XRD），扫描电子显微镜（SEM）分析表明，稍高气压有利于金刚石薄膜的快速，致密生长。
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| 关 键 词： | 化学气相沉积 金刚石薄膜 制备 X射线 衍射谱 直流辉光等离子辅助热丝 扫描电子显微镜 |
| 文章编号： | 1004-8138(2002)01-0137-03 |
| 修稿时间： | 2001年11月15 |
Study of Diamond Films Grown on Si(100) by Glow Plasma HFCVD |
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| ZHAO Qing,Xun,HAN Jia,Ning,WEN Qin,Ruo,XIN Hong,Li,YANG Jing,Fa.Study of Diamond Films Grown on Si(100) by Glow Plasma HFCVD[J].Chinese Journal of Spectroscopy Laboratory,2002,19(1):137-139. |
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| Authors: | ZHAO Qing Xun HAN Jia Ning WEN Qin Ruo XIN Hong Li YANG Jing Fa |
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| Keywords: | CVD Low Temperature Diamond |
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