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基于自蔓延反应的气密性陶瓷封装技术研究
引用本文:李杨,朱家昌,明雪飞,吉勇,高娜燕.基于自蔓延反应的气密性陶瓷封装技术研究[J].电子产品可靠性与环境试验,2019,37(3).
作者姓名:李杨  朱家昌  明雪飞  吉勇  高娜燕
作者单位:中国电子科技集团公司第五十八研究所,江苏 无锡,214035;中国电子科技集团公司第五十八研究所,江苏 无锡,214035;中国电子科技集团公司第五十八研究所,江苏 无锡,214035;中国电子科技集团公司第五十八研究所,江苏 无锡,214035;中国电子科技集团公司第五十八研究所,江苏 无锡,214035
摘    要:

关 键 词:自蔓延反应  Al/Ni复合叠层薄膜  局部加热  气密性陶瓷封装
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