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Sol-gel法制备掺钕钛酸铅铁电薄膜
引用本文:杨长红,王卓,姜付义,翟剑庞,仪修杰,韩建儒.Sol-gel法制备掺钕钛酸铅铁电薄膜[J].人工晶体学报,2004,33(2):223-226.
作者姓名:杨长红  王卓  姜付义  翟剑庞  仪修杰  韩建儒
作者单位:山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100
摘    要:采用sol-gel法在P型Si(111)衬底上制备了Pb0.85Nd0.1TiO3(PNT) 薄膜.用X射线衍射技术研究了退火温度对薄膜结构和结晶性的影响.同时还研究了薄膜的介电、铁电和绝缘性能.结果发现在600℃下退火1h的PNT薄膜呈钙钛矿结构;在0~5V范围内,薄膜的漏电流密度小于1.00×10-5A/cm2;在±5V的偏压范围内,C-V记忆窗口宽度为2V;在零电压下,时间保持长达105~106s; 在室温100kHz下,其介电常数为31.60,介电损耗为0.12.

关 键 词:sol-gel法  PNT  铁电薄膜  
文章编号:1000-985X(2004)02-0223-04

Preparation of Nd-doped PbTiO3 Thin Films by Sol-gel Method
YANG Chang-hong,WANG Zhuo,JIANG Fu-yi,ZHAI Jian-pang,YI Xiu-jie,HAN Jian-ru hina.Preparation of Nd-doped PbTiO3 Thin Films by Sol-gel Method[J].Journal of Synthetic Crystals,2004,33(2):223-226.
Authors:YANG Chang-hong  WANG Zhuo  JIANG Fu-yi  ZHAI Jian-pang  YI Xiu-jie  HAN Jian-ru hina
Abstract:
Keywords:PNT
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