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| 衍射光栅自刻法 | |
| 引用本文： | 梁浩明,郝德阜.衍射光栅自刻法[J].光学学报,1983(7). |
| 作者姓名： | 梁浩明 郝德阜 |
| 作者单位： | 中国科学院长春光学精密机械研究所 (梁浩明)，中国科学院长春光学精密机械研究所(郝德阜) |
| 摘 要： | 本文介绍以被刻光栅本身作为分度基准刻划长衍射光栅的新方法;以原基准信号控制机器,在一个长毛坯的前端刻出一段光栅,借此构成新的干涉仪以产生“自刻信号”,然后再以此信号控制机器,接着刻划光棚后面的部分.分析了转接误差对自刻光栅的影响,得出刻划长度和误差累积的关系.介绍了实验方案、装置、实验结果等.所刻样品光栅的衍射波阵面干涉条纹在转接处看不出错开和弯曲,实测分辨本领达到理论值的90%(半宽法). |
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