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大面积自支撑CVD金刚石厚膜的应力研究
引用本文:卢文壮,左敦稳,徐锋,王珉. 大面积自支撑CVD金刚石厚膜的应力研究[J]. 人工晶体学报, 2008, 37(6): 1444-1447
作者姓名:卢文壮  左敦稳  徐锋  王珉
作者单位:南京航空航天大学机电学院,南京,210016;江苏省精密与微细制造技术重点实验室,南京,210016;南京航空航天大学机电学院,南京,210016
基金项目:国家自然科学基金,江苏省自然科学基金,江苏省精密与微细制造技术重点实验室资助项目 
摘    要:在HFCVD系统中制备了直径为φ100 mm的自支撑CVD金刚石厚膜,利用XRD研究了自支撑CVD金刚石厚膜的应力.结果显示制备的大面积自支撑CVD金刚石厚膜处于较低的应力水平,应力分布较均匀,生长面应力状态为压应力,成核面应力状态为张应力.

关 键 词:应力  金刚石厚膜  自支撑  大面积  XRD

Stress in Large Area Free-standing CVD Diamond Thick Film by X-ray Diffraction Analysis
LU Wen-zhuang,ZUO Dun-wen,XU Feng,WANG Min. Stress in Large Area Free-standing CVD Diamond Thick Film by X-ray Diffraction Analysis[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2008, 37(6): 1444-1447
Authors:LU Wen-zhuang  ZUO Dun-wen  XU Feng  WANG Min
Abstract:
Keywords:XRD
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