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光学玻璃超精密抛光加工中材料去除机理研究综述
引用本文:蒋小为,龙兴武,谭中奇.光学玻璃超精密抛光加工中材料去除机理研究综述[J].中国激光,2021(4):231-248.
作者姓名:蒋小为  龙兴武  谭中奇
作者单位:国防科技大学前沿交叉学科学院
基金项目:湖南省研究生教育创新工程和专业能力提升工程项目(CX20200016);国防科技大学自主科研专项项目(ZZKY-YX-07-01)。
摘    要:光学玻璃以其优异的物理性能被广泛应用于航天、信息、能源、化工、微电子等领域。随着这些领域的不断发展,传统技术已无法满足日新月异的光学元件超光滑表面加工的要求。为此,需要针对光学玻璃表面的超精密抛光加工展开深入且广泛的研究。在诸多有关超精密抛光加工技术的研究中,光学玻璃材料的抛光去除机理始终是人们的研究重点。为此,本文从超抛加工涉及的基本组件、材料去除的物理机理、材料去除的化学机理三个方面入手,对光学玻璃超精密抛光加工中材料去除机理进行综述,目的是掌握国内外学术界对于该问题的认识,并据此提出若干问题的思考,以期指导工程实践,进一步提升超光滑表面的成形能力。

关 键 词:材料  光学玻璃  超光滑表面  抛光加工  材料去除机理

A Review of Material Removal Mechanism in Ultra-Precision Polishing of Optical Glass
Jiang Xiaowei,Long Xingwu,Tan Zhongqi.A Review of Material Removal Mechanism in Ultra-Precision Polishing of Optical Glass[J].Chinese Journal of Lasers,2021(4):231-248.
Authors:Jiang Xiaowei  Long Xingwu  Tan Zhongqi
Institution:(College of Advanced Interdisciplinary Studies,National University of Defense Technology,Changsha Hunan 410073 China)
Abstract:
Keywords:materials  optical glass  super smooth surface  polishing  material removal mechanism
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录!
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