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| 真空微电子器件的栅极制造技术 | |
| 引用本文： | 朱长纯,关辉,李天英.真空微电子器件的栅极制造技术[J].半导体学报,1996,17(4):313-317. |
| 作者姓名： | 朱长纯 关辉 李天英 |
| 作者单位： | 西安交通大学真空微电子与微电子机械研究所 |
| 摘 要： | 本文详细地介绍了真空微电子栅极工艺制造的自剥离与无版光刻技术，并用这两种方法分别制造出了符合要求的栅极结构．在现有的条件下进行了栅控场致发射特性的测试，并通过实验曲线计算出了栅控场致发射的三个参数． |
| 关 键 词： | 真空微电子器件 栅极 制造 |
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