| Si(111)-7×7表面上C60多层膜的生长及其纳米摩擦学性质 |
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| 引用本文： | 杜晓清,李慧琴,朱齐荣,邹志强,梁齐.Si(111)-7×7表面上C60多层膜的生长及其纳米摩擦学性质[J].物理化学学报,2011,27(10):2457-2461. |
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| 作者姓名： | 杜晓清 李慧琴 朱齐荣 邹志强 梁齐 |
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| 作者单位： | 1. Department of Physics, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, P. R. China;
2. Instrumental Analysis Center, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, P. R. China |
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| 摘 要： | 在超高真空(UHV)条件下,用分子束外延(MBE)方法,通过对生长过程中蒸发速率和衬底温度等参数的控制,可以避免C60分子在Si(111)-7×7重构表面多层生长时团聚岛的形成,得到了逐层生长的C60多层膜.同时利用超高真空扫描隧道显微镜(UHV-STM)对这种多层膜结构进行了观察并对这种现象产生的机理做了分析,测定了不同层数C60薄膜的黏附力和摩擦力曲线,发现分子层数对薄膜的摩擦性质有显著影响,随着沉积层数的增加,样品的摩擦力明显降低,摩擦系数也有降低的趋势.由于分子层数的增加导致C60分子转动程度增强,本文得出结论,摩擦力的降低是由C60分子的转动引起的,C60分子在这里充当了“纳米滚动轴承”,即C60分子的转动为微观结构提供了能量耗散通道.
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| 关 键 词： | 富勒烯 分子束外延 薄膜生长 纳米摩擦性质 扫描隧道显微镜 |
| 收稿时间： | 2011-06-27 |
| 修稿时间： | 2011-08-17 |
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