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利用AC双磁控管阴极在大尺寸基体上进行反应性溅射电介质层

引用本文：	笑生.利用AC双磁控管阴极在大尺寸基体上进行反应性溅射电介质层[J].等离子体应用技术快报,1999(3):7-8.

作者姓名：	笑生

摘要：
关键词：	磁控管反应性溅射二氧化硅薄膜
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