石墨插层化合物 |
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引用本文: | 陆栋.石墨插层化合物[J].物理,1987(12). |
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作者姓名: | 陆栋 |
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作者单位: | 复旦大学现代物理研究所 |
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摘 要: | 近二十年来,科学技术突飞猛进,低维物理学研究的发展是这总趋势中的一个方面.MOSFET(金属-氧化物-硅场效应晶体管)技术的发展开辟了二维电子气物性研究的新局面.量子霍耳效应、分数量子霍耳效应以及定域化现象的研究成为物理学的前沿.分子束外延技术结合超高真空技术和计算机控制提供可能制造人们设计的种种奇特的新材料,例如原子级明晰的界面,亚微米级的几何图案结构,非晶态或晶态的半导体超晶格和金属超晶格,控制超晶格内的成分和掺杂等.这既为物理学开辟了新的研究领域,也为设计和制备新型器件提供了新途径. 二维物理学中的主要研究的…
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