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基于silvaco-TCAD的In0.53Ga0.47As/InP红外探测器的仿真
引用本文:陈豪,肖清泉,袁正兵,王坤,黎业羽,史娇娜,谢泉,陆书龙. 基于silvaco-TCAD的In0.53Ga0.47As/InP红外探测器的仿真[J]. 低温物理学报, 2018, 0(6): 1-7
作者姓名:陈豪  肖清泉  袁正兵  王坤  黎业羽  史娇娜  谢泉  陆书龙
作者单位:贵州大学大数据与信息工程学院,贵阳550025,贵州大学大数据与信息工程学院,贵阳550025,贵州大学大数据与信息工程学院,贵阳550025,贵州大学大数据与信息工程学院,贵阳550025,贵州大学大数据与信息工程学院,贵阳550025,贵州大学大数据与信息工程学院,贵阳550025,贵州大学大数据与信息工程学院,贵阳550025,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 纳米器件与应用重点实验室,苏州 215123
摘    要:采用silvaco-TCAD研究In0.53Ga0.47As/InP SAGCM-APD光电探测器,对探测器的结构参数对器件的电场分布、击穿电压和贯穿电压的影响进行仿真分析。研究表明电荷层对器件内部电场起到更好的调节作用,但过高的电荷层面密度会导致APD探测器的击穿电压与贯穿电压之差减小。倍增层厚度的增加使击穿电压先减小后增高,贯穿电压线性增加,同时耗尽层宽度变大,使器件电容减小。当倍增区厚度1 μm、偏压为-5 V时,器件电容密度达到了4.5×10-17 F/μm。反向偏置电压为30 V时,APD探测器在1.31 μm和1.55 μm波长下的响应度分别达到1 A/W和1.1 A/W

关 键 词:In0.53Ga0.47As/InP SAGCM-APD探测器;InP倍增层;击穿电压;贯穿电压

Simulation on The In0.53Ga0.47As/InP Infrared Detectors by Silvaco-TCAD
CHEN Hao,XIAO Qingquan,YUAN Zhengbing,WANG Kun,LI Yeyu,SHI Jiaon,XIE Quan and LU Shulong. Simulation on The In0.53Ga0.47As/InP Infrared Detectors by Silvaco-TCAD[J]. Chinese Journal of Low Temperature Physics, 2018, 0(6): 1-7
Authors:CHEN Hao  XIAO Qingquan  YUAN Zhengbing  WANG Kun  LI Yeyu  SHI Jiaon  XIE Quan  LU Shulong
Abstract:
Keywords:In0.53Ga0.47As/InP SAGCM-APD detector   the InP multiplication layer   breakdown voltage   punch-through voltage
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