光集成借力缓冲层

东京工业大学与富士通实验室的工程师开发了一项新技术，可以使1550nm（标准光通信波长）的红外光在硅基元件中传播。这项突破将有助于把电子芯片与光学器件如调制器和光开关等集成到更紧凑的通信元件上。