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SiC材料及器件研制的进展
引用本文:李晋闽. SiC材料及器件研制的进展[J]. 物理, 2000, 29(8): 481-487
作者姓名:李晋闽
作者单位:中国科学院半导体研究所,北京,100083
摘    要:作为第三代的半导体材料-SiC具有禁带宽度大、热导率高、电子的饱和漂移速度大、临界击穿电场高和介电常数低等特点,在高频、大功率、耐高温、抗辐照的半民体器件及紫外探测器和短波发光二级管等方面具有广泛的应用前景,文章综述了半导体SiC材料生长及其器件研制的概况。

关 键 词:外延生长 碳化硅材料 碳化硅器件

SiC MATERIALS AND DEVICES
LI Jin-Min. SiC MATERIALS AND DEVICES[J]. Physics, 2000, 29(8): 481-487
Authors:LI Jin-Min
Abstract:As a third generation semiconductor materials, SiC has a large band gap, high thermal conductivity, high electron saturation velocity, high breakedown voltage and low dielectric constant. Its promising properties make it an attractive material for high|frequency, high|power, high|temperature and radiation stable electronic devices, UV detectors and short wave length LED's. This review describes the progress of SiC bulk and film growth and its device applications.
Keywords:SiC material   epilayer growth   SiC device
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