|
|||||
|
|
| 薄膜光学 制膜技术与装置 | |
| 摘 要： | O484．1 2005064320 磁控溅射材料沉积速率的定标方法的研究=Calibrating method of magnetron sputtering material deposition rate 刊,中]/吴文娟(同济大学精密光学工程技术研究所．上 海(200092)),王占山…∥光学技术．-2005,31(4)．- 537-539 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
|
||||||||
|
||||||||
|
||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |