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| 初级纵向集成电路的制造工艺、应用和未来（二） | |
| 引用本文： | TadayoshiEnomoto 石广元 白古山 张礼德.初级纵向集成电路的制造工艺、应用和未来（二）[J].微电子学与计算机,1991,8(3):46-48. |
| 作者姓名： | TadayoshiEnomoto 石广元 白古山 张礼德 |
| 作者单位： | [1]Fabricationprocess,ApplicationandFutureforanElementalLevelVerticallyIntegratedCircuit（ELVIC） [2]不详,ApplicationandFutureforanElementalLevelVerticallyIntegratedCircuit（ELVIC） |
| 摘 要： | |
| 关 键 词： | 初级纵向集成电路 制造工艺 移位寄存器 LSI 大规模集成电路 |
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