| 常规退火与光退火固相晶化的对比 |
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| 引用本文： | 靳锐敏,卢景霄,王海燕,张丽伟,王生钊,刘萍,王红娟.常规退火与光退火固相晶化的对比[J].人工晶体学报,2005,34(6):1171-1173. |
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| 作者姓名： | 靳锐敏 卢景霄 王海燕 张丽伟 王生钊 刘萍 王红娟 |
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| 作者单位： | 郑州大学材料物理教育部重点实验室,郑州,450052 |
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| 摘 要： | 为研究传统炉子退火与光退火固相晶化的不同特点,用石英玻璃作衬底,在室温、350℃和450℃下用PECVD法直接沉积非晶硅(a-Si:H)薄膜,把沉积的样品分别在850℃下用传统炉子退火3h、用光快速热处理(RTP)5min,然后用Raman、XRD和SEM分析对比,发现传统炉子退火后的晶粒分布不均匀,光退火后的晶粒分布均匀.XRD分析发现两种方法晶粒尺寸均为30nm左右.
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| 关 键 词： | PECVD法 非晶硅薄膜 传统退火炉子 光退火 晶粒大小 拉曼光谱 XRD SEM |
| 文章编号： | 1000-985X（2005）06-1171-03 |
| 收稿时间： | 03 18 2004 12:00AM |
| 修稿时间： | 2004-03-182005-06-29 |
Comparison of the Solid-phase Crystallization between Conventional Furnace Annealing and Pulsed Rapid Thermal Method |
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| JIN Rui-min,LU Jing-xiao,WANG Hai-yan,ZHANG Li-wei,WANG Sheng-zhao,LIU Ping,WANG Hong-juan.Comparison of the Solid-phase Crystallization between Conventional Furnace Annealing and Pulsed Rapid Thermal Method[J].Journal of Synthetic Crystals,2005,34(6):1171-1173. |
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| Authors: | JIN Rui-min LU Jing-xiao WANG Hai-yan ZHANG Li-wei WANG Sheng-zhao LIU Ping WANG Hong-juan |
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| Institution: | Key Laboratory of Material Physics of Ministry of Education of China,Zhengzhou University, Zhengzhou 450052 ,China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | PECVD a-Si:H film conventional furnace annealing pulsed rapid thermal method grain size Raman spectra XRD SEM |
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