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| 退火工艺对SiN膜及SiO2/SiN双层膜钝化特性的影响 | |
| 引用本文： | 章曙东,周国华,张光春,施正荣,朱拓.退火工艺对SiN膜及SiO2/SiN双层膜钝化特性的影响[J].江南大学学报(自然科学版),2008,7(2):183-186. |
| 作者姓名： | 章曙东 周国华 张光春 施正荣 朱拓 |
| 作者单位： | 1. 江南大学,通信与控制工程学院,江苏,无锡,214122 2. 尚德太阳能电力有限公司,江苏,无锡,214028 3. 尚德太阳能电力有限公司,江苏,无锡,214028;江南大学,理学院,江苏,无锡,214122 4. 江南大学,理学院,江苏,无锡,214122 |
| 摘 要： | 针对硅太阳电池的背表面钝化,研究了在多晶硅P型衬底上SiN膜及SiO2/SiN双层膜的热稳定性及在不同温度下两种膜的退火特性.通过准稳态光电导衰减法测试其少数载流子寿命,发现SiN膜比较适合于在500℃以内的温度下进行常规炉热退火,而SiO2/SiN双层膜则比较适合在600~700℃之间的温度下进行常规炉热退火.对SiN膜进行链式炉热退火实验表明,低温(700~850℃)条件下表面钝化效果最好. |
| 关 键 词： | 背面钝化 SiN膜 SiO2/SiN双层膜 退火 |
| 文章编号： | 1671-7147(2008)02-0183-04 |
| 修稿时间： | 2007年1月10日 |
Influence of Anneal Treatment on the Passivation Characterizations of SiN Film and SiO2/ SiN Double-Layer Film |
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| ZHANG Shu-dong,ZHOU Guo-hua,ZHANG Guang-chun,SHI Zheng-rong,ZHU Tuo.Influence of Anneal Treatment on the Passivation Characterizations of SiN Film and SiO2/ SiN Double-Layer Film[J].Journal of Southern Yangtze University:Natural Science Edition,2008,7(2):183-186. | |
| Authors: | ZHANG Shu-dong ZHOU Guo-hua ZHANG Guang-chun SHI Zheng-rong ZHU Tuo |
| Abstract: | |
| Keywords: | rear surface passivation SiN film SiO2/ SiN double-layer film annealing |
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