| 喷嘴-平板直流电晕放电中的OH(A2Σ+→X2Π,0-0)光谱研究 |
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| 引用本文： | 高翔,余权,吴祖良,谭永杰,沈旭,骆仲泱,岑可法.喷嘴-平板直流电晕放电中的OH(A2Σ+→X2Π,0-0)光谱研究[J].强激光与粒子束,2007,19(4):700-704. |
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| 作者姓名： | 高翔 余权 吴祖良 谭永杰 沈旭 骆仲泱 岑可法 |
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| 作者单位： | 1. 浙江大学,能源清洁利用国家重点实验室,杭州,310027
2. 浙江工商大学,环境工程系,杭州,310035 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划);国家重点基础研究发展计划(973计划) |
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| 摘 要： | 为更深入地认识电晕放电低温等离子体中自由基的生成机理,以发射光谱测量为基础并结合背景气体淬灭率影响,研究了常压下喷嘴-平板电晕自由基簇射过程中放电参数、背景气体、电极气成分等因素对OH(A2Σ →X2Π,0-0)发光的影响。结果表明:在放电参数影响中,放电电压及放电电流都会影响OH生成量,OH发光随功率增加而大大增强;在加湿氮气直流电晕放电中有明显的OH(A2Σ →X2Π,0-0)光谱存在,但加湿空气条件下OH生成较少;载气增湿后OH生成量明显增多,而Ar和O2的存在分别增强和减弱了OH(A2Σ →X2Π,0-0)发光,可能的原因是这两种物质影响了放电和OH(A2Σ )的淬灭。
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| 关 键 词： | OH自由基 发射光谱 电晕 自由基 放电 淬灭 |
| 文章编号： | 1001-4322(2007)04-0700-05 |
| 收稿时间： | 2006/11/27 |
| 修稿时间： | 2006-11-27 |
OH(A2Σ+→X2Π,0-0) emission spectrum in nozzle-to-plate DC corona discharge |
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| GAO Xiang,YU Quan,WU Zu-liang,TAN Yong-jie,SHEN Xu,LUO Zhong-yang,CEN Ke-fa.OH(A2Σ+→X2Π,0-0) emission spectrum in nozzle-to-plate DC corona discharge[J].High Power Laser and Particle Beams,2007,19(4):700-704. |
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| Authors: | GAO Xiang YU Quan WU Zu-liang TAN Yong-jie SHEN Xu LUO Zhong-yang CEN Ke-fa |
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| Institution: | 1. State Key Laboratory of Clean Energy Utilization, Zhejiang University, Hangzhou 310027, China; 2. Department of Environmental Engineering, Zhejiang Gongshang University, Hangzhou 310035, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | OH radical Emission spectrum Corona Radical Discharge Quenching |
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