ICP-AES法快速测定工业硅中杂质元素 |
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引用本文: | 曹海宁,王志嘉,赵婷,刘睿,王浩.ICP-AES法快速测定工业硅中杂质元素[J].理化检验(化学分册),2000,36(6):274-275. |
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作者姓名: | 曹海宁 王志嘉 赵婷 刘睿 王浩 |
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作者单位: | 辽宁省分析测试研究中心,沈阳110015 |
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摘 要: | 我国是工业硅生产大国 ,每年都有大量出口任务。硅产品是重要的原材料 ,其杂质含量严重影响产品质量 ,影响出口。为了国家出口创汇 ,寻找工业硅中微量杂质元素的快速准确分析方法 ,是商检部门亟待解决的课题。GB/T1 484 9- 93标准中 ,铁、钙及铝分析采用容量法和吸光光度法 ,其操作复杂周期长 ,消耗试剂多。铁和钙元素有用原子吸收光谱法1 ,2 ] ,其中磷元素质量分数小于 5× 1 0 - 3% ,是化学分析法和原子吸收光谱法均难以解决的。本文研究了用 ICP- AES法 ,在同一份溶液中同时测定磷、铁、钙、铝、铜、钒和钛杂质元素 ,其中磷的检出下…
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关 键 词: | 工业硅 杂质元素 测定 ICP-AES |
修稿时间: | 1998-08-06 |
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