首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

采用增强P阱和双层外延来抑制寄生双极型晶体管效应的高可靠性RF-LDMOS设计
引用本文:徐向明,黄景丰,遇寒,钱文生,周正良,韩波,王勇,王鹏飞,张卫.采用增强P阱和双层外延来抑制寄生双极型晶体管效应的高可靠性RF-LDMOS设计[J].半导体学报,2015,36(6):064013-6.
作者姓名:徐向明  黄景丰  遇寒  钱文生  周正良  韩波  王勇  王鹏飞  张卫
基金项目:国家基础研究重大项目基金
摘    要:近20年来,横向扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(LDMOS)技术在无线通信基站应用中占据着主导性优势,器件鲁棒性是射频LDMOS最为重要的要求之一,因为器件被使用于非常严酷的电气及发热的环境之中。本文研究了一种采用增强P阱和双层外延来抑制寄生双极型晶体管效应的RF-LDMOS器件,在改善鲁棒性的同时保持器件在高频应用下的高性能。基于此设计,采用基于0.35um CMOS的工艺技术制造了一种应用于全球移动通信系统(GSM)的RF LDMOS器件。实验结果表明,该器件实现击穿电压高于70V,输出功率180W,线性增益高于20dB,在920MHz频率下的附加功率效率高于70%,尤其这个器件能够通过在32V直流供电,功率输出在10-dB压缩点及电压驻波比20:1负载失配条件下的测试,与传统器件结构相比,器件的鲁棒性得到显著的提高。

关 键 词:RF  power  LDMOS  semiconductor  device  ruggedness  reliability

Design of high reliability RF-LDMOS by suppressing the parasitic bipolar effect using enhanced p-well and double epitaxy
Xu Xiangming,Huang Jingfeng,Yu Han,Qian Wensheng,Zhou Zhengliang,Han Bo,Wang Yong,Wang Pengfei and Wei Zhang.Design of high reliability RF-LDMOS by suppressing the parasitic bipolar effect using enhanced p-well and double epitaxy[J].Chinese Journal of Semiconductors,2015,36(6):064013-6.
Authors:Xu Xiangming  Huang Jingfeng  Yu Han  Qian Wensheng  Zhou Zhengliang  Han Bo  Wang Yong  Wang Pengfei and Wei Zhang
Institution:1. State Key Laboratory of ASIC and System, School of Microelectronics, Fudan University, Shanghai 201203, China;HuaHong Grace Semiconductor Manufacturing Corporation, Shanghai 201203, China;2. HuaHong Grace Semiconductor Manufacturing Corporation, Shanghai 201203, China;3. HuaHong Grace Semiconductor Manufacturing Corporation, Shanghai 201203, China;School of Computer and Information Engineering, Fuyang Teachers College, Fuyang 236037, China;4. State Key Laboratory of ASIC and System, School of Microelectronics, Fudan University, Shanghai 201203, China
Abstract:
Keywords:RF power  LDMOS  semiconductor device  ruggedness  reliability
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《半导体学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《半导体学报》下载免费的PDF全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号